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產品中心
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產品中心
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ITO高光透導電玻璃鍍膜線


  設備簡述


  本公司生產的ITO高光透導電玻璃鍍膜線,是用氧化銦錫(Indium-Tin Oxide)靶材和其它金屬靶材組合,在高度凈化的廠房環境中,利用平面磁控技術,在超薄玻璃上濺射氧化銦錫導電薄膜鍍層得到的高技術產品。廣泛地用于液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導電膜玻璃、光電子和各種光學領域,在壓克力板材、玻璃、陶瓷、手機殼、電腦、PC、PET等表面磁控濺射高質量、多功能金屬膜、防干擾電磁屏蔽膜(EMI)、反應膜、復合膜、透明導電膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量連續式磁控金屬化生產,采用同行業最先進的生產工藝,極大地提高了膜層與工件的結合力、附著力。

  設備參數

腔體

4pcs

/出架室

L2600×W300×H2200mm

1.72m3

/出架儲氣罐室

Φ500×H1600mm

2.51m3

占地

30m×10m

/出架傳輸室

L2500×W200×H2000mm

1.00m3

鍍膜室主真空室

L1300×W250×H2200mm

0.72m3

玻璃架鍍膜窗口尺寸

L2300×H1600

/出玻璃架節拍

5 mins

應用技術

磁控濺射

電源

直流電源40KW,中頻電源40kw

磁控靶

14pcs

ITO平面靶4,Al圓柱靶8, Cu圓柱靶1, SS圓柱靶1

應用

液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導電膜玻璃、光電子和各種光學領域玻璃連續鍍膜

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